■臭氧水浓度高
（最大30ppm）
■臭氧水中无金属杂质
半导体，液晶，太阳能电池等洁净规格（臭氧水生成部由氟素树脂材料组成）
■臭氧浓度上升快
达到臭氧最大浓度仅需大约1分钟
■生成器体积小
长400mm。宽550mm。高820mm（标准规格）
■与其他公司产品相比价格低廉
节约成本替代药品
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目前市场上关于半导体晶片的清洗，主要使用的是SCL（氨/过氧化氢）硫酸，盐酸等药物，价格较高。使用臭氧水和稀氢氟酸来代替这些化学药品，在降低成本的同时，可以更好地去除金属杂质。
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臭氧具有仅次于氟的高氧化还原电位，可以氧化分解大量杂质。例如，氧化有机物质并除去二氧化碳气体。此外，通过氧化硅的表面形成二氧化硅膜，从而实现清洗后不留斑点。
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我们设计在臭氧水生成一个点的核心不具有所谓的多余的质量设计。除了氧气，其他原料几乎不消耗，因此具有很高的性价比（取决于机型）。
使用臭氧水生成装置的
◯半导体（清洗）
◯FPD，液晶（清洗）
◯MEMS，传感器（清洁）
◯硬盘（清洗）
◯太阳能电池（清洁）
◯医疗（洗手，纯净水管道清洗）
◯食品（洗手，消毒，除臭）
使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度
利用臭氧的强氧化能力，可以实现分解并去除大量的杂质。
根据杂质的形状与数量的不同，所需浓度也将有所变化，请参考右图数据。
此外，如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用，去除杂质的效果将倍增。
基本规格
| 項目 | 項目 |
|---|---|
| 臭氧生成方式 | 无声放电法 |
| 将臭氧气体溶解于纯净水的方法 | 喷射方式 |
| 臭氧水中臭氧的浓度监测 | 紫外吸收法 |
| 臭氧水浓度 | 最高为30ppm |
| 臭氧水流量 | 最高50L /min |
| 设备尺寸 | 宽度400mm 深度550mm 高度850毫米（标准型） |
| 重量 | 20 ～ 100Kg |
| 消耗功率 | ～３KW |
| 氧气压力 | 为0.1MPa（供给为0.3MPa） |
| 氧气纯度 | 99.5％（指定） |
| 氧气消耗量 | ～16L/min. |
| 供应纯净水的压力 | 0.20Mpa以上（理想值0.25MPa） |
| 供应纯净水的温度 | 低于25℃ |
| 臭氧气体生成部的冷却水温度 | 理想值为20℃以下。如无法实现，需根据情况增加冷却器（可选）。 |
| CO2气体消耗量 （臭氧浓度过高时需通过纯净水？行注入） |
大约100cc/min |
| 装置 タイプ |
製品 | 用途 | オゾン 濃度(ppm) |
臭氧浓度 (L/min) |
納期 |
|---|---|---|---|---|---|
| Ⅰ | ●而半导体精密清洗 ●LED，LCD，传感器 ●太阳能电池，MEMS部 |
●半导体用洁净规格。 ●所有的过流部件均采用塑料部件。（ 臭氧水中不含有金属成分） |
25 | 10 | 1～ 2.5ヶ月 |
| 25 | 30 | ||||
| 20 | 2.5 | ||||
| 20 | 5 | ||||
| 10 | 5 | ||||
| 10 | 10 | ||||
| 5 | 10 | ||||
| 5 | 20 | ||||
| Ⅱ | 允许臭氧水含有少量金属成分 | ●低价版。 ●在气体溶部位使用SUS316材质的装置，管道。臭氧气体生成部与上述相同。 ●如果允许臭氧水含有少量金属成分，与I机型相比价格低廉。 |
25 | 10 | |
| 25 | 30 | ||||
| 20 | 2.5 | ||||
| 20 | 5 | ||||
| 10 | 5 | ||||
| 10 | 10 | ||||
| 5 | 10 | ||||
| 5 | 20 |
①减少化学药品的使用
a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用，难以使用。而近年，臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器，便可以简单地产生臭氧，因此可大大降低运营成本。
b) 使用臭氧水进行清洗处理后，臭氧成分便迅速蒸发，因此废水处理也十分容易。
②出色的清洗能力(颗粒， 金属污染物，有机物质)
因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注）
推荐的清洗处理方法
※清洗装置使用枚叶式主轴。
使用臭氧水的优点（与使用药液的比较）
| 使用臭氧水 | 优劣判断 | 使用药液 | |
|---|---|---|---|
| ①仅次于氟素的强氧化能力 →去除金属，有机物强力有效 |
○ | × | ①使用盐酸，硫酸，双氧水等具有强酸性的药液，并且药液具有100℃左右的高温，操作时要十分注意。 |
| ②臭氧水处理后形成氧化膜，（0.8nm左右） →晶片表面具有亲水性 →晶片表面粒子数少 |
○ | ○ | ②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多（为了除去粒子） |
| ③臭氧成分通过自然蒸发，或者通过使用简易臭氧分解设备， 从而使工厂排水变为可能。 →臭氧水易蒸发，立刻变成纯水 →可以使用工厂废水管道排放臭氧水 →纯水可循环利用 |
○ | ○ | ③药液使用后，使用工厂的废液处理设备中和处理。 → 药液不可循环使用 |
成本比较
| ⑤消耗材料价格低 →基本上只需支付氧气费用和电费 总计费用52,900日元/月（634,800日元/年） |
○ | × | ④药液成本高。（以使用浴槽式设备清洗为例计算） 总计药液费用：9,450,060日元/月（113,400,720日元/年） |
| (上述⑤的具体内容） ・氧气费用：1liter/分 、1,300日元/ｍ3、臭氧水制造设备的运转率以80%计算为例 → 1个月氧气使用费：46,000日元 ・电费 设备消耗电力：400W，电费以30日元/KWh为例，每个月的电费6,900日元/月 |
（上述④的具体内容） ・硫酸/双氧水（50升*3回交换/每天。成分比：硫酸5对双氧水1。硫酸单价：1,000日元/500ml，双氧水单价：1,300日元/500ml） →每月硫酸消耗量3,750升（7,500,060日元/月） →每月双氧水消費量750升（1,950,000日元/月） |
||
| ⑥与其它公司相比，低价提供设备 |
臭氧水清洗处理后的金属附着量
